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450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡介:450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等,廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品型號

450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

技術參數(shù)

系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。

  技術指標:

  極限真空度:≤6.7×10 Pa

  恢復真空時間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min

  系統(tǒng)漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;

  真空室:真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門,后置抽氣系統(tǒng)e型電子槍:陽極電壓:6kv、8kv(1套)

  坩堝:水冷式坩堝,四穴設計,每個容量11ml

  功率:0-6KW可調(diào)

  電阻蒸發(fā)源(可選)

  電壓:5、10V

  功率:電流300A,大輸出功率3Kw1套,可切換水冷電

  極3根,組成2個蒸發(fā)舟

  基片尺寸:可放置4″基片

  樣品臺:基片可連續(xù)回轉,轉速5-60轉/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm加熱溫度 800°C±1°C,可調(diào)手動控制樣品擋板組件1套

  氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路

  石英晶振膜厚控制儀:監(jiān)測膜厚顯示范圍:0-99μ9999Å


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