研究開發用等離子清洗機
用途：
CSB/BGA/COB基板的等離子處理
有機膜和金屬氧化膜的除去
印刷電路基板的干洗
界面活性處理
| 型號 | PDC200 | PDC210 | PDC510 |
| 模式 | RIE模式（DP選配） | DP模式 | DP/RIE切換方式 |
| 電極構造 | 平行平板電極（固定） | ||
| 高頻輸出功率 | MAX300W | Max 500W | |
| 頻率 | 13.56MHz | ||
| 控制方式 | 自動聯動，液晶觸摸屏控制 | ||
| 反應室尺寸 | 400×250×150mm | 500×300×200 | |
| 電極尺寸 | 250×170mm | 400×200mm | |
| 反應室材質 | 一次性一體成型鋁腔（防腐蝕，可對應CF4） | ||
| 反應氣體 | 2系統（Ar/O2） | ||
| 填充氣體 | N2/潔凈干燥空氣 | ||
| 反應氣體流量控制 | 流量計 | 聚合控制器 | |
| 真空泵 | 另行選配 | 油回旋真空泵（排氣量345L/min） | 油回旋真空泵（排氣量500L/min） |
| 氣體導入口 | 反應氣體2套，填充氣體1套 | ||
| 外型尺寸 | 540×600×600mm | 540×600×600mm | 700×700×700mm |
| 電源 | 單相AC100V 15A 50/60Hz | 三相AC100V 15A 50/60Hz | |
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