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Nexsa ESCALAB XI+ Thermo賽默飛世爾光電子能譜儀

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銷售//高價回收Thermo賽默飛世爾Nexsa ESCALAB XI+光電子能譜儀

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 賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器,它可以用于研究各種固體材料樣品表面(1-10nm厚度)的元素種類、化學價態以及相對含量。結合離子刻蝕技術還可以獲得元素及化學態深度分布信息;通過成像技術可以獲得元素及化學態的面分布信息;利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區表面信息。在金屬、玻璃、高分子、半導體、納米材料、生物材料以及催化等領域有廣泛應用。

               
賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀 產品信息

賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器,它可以用于研究各種固體材料樣品表面(1-10nm厚度)的元素種類、化學價態以及相對含量。結合離子刻蝕技術還可以獲得元素及化學態深度分布信息;通過成像技術可以獲得元素及化學態的面分布信息;利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區表面信息。在金屬、玻璃、高分子、半導體、納米材料、生物材料以及催化等領域有廣泛應用。賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀以X射線光電子能譜為主要功能,還帶有俄歇電子能譜、紫外光電子能譜、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能。
主要功能特點如下:
1.  常規XPS,鑒別樣品表面的元素種類、化學價態以及相對含量。雙陽極XPS,更適合用于不同的特殊過渡金屬元素的研究,如催化領域。
2.  微區XPS分析(單色化XPS),用于樣品微區(>20μm)表面成分分析,高能量分辨的化學態分析
3.  深度剖析XPS,結合離子刻蝕技術對樣品(如薄膜等)進行成分深度分布分析。通過角分辨XPS還可以進行非損傷成分深度分布分析。
4.  XPS成像,可以對元素或化學態進行表面面分布分析,使一些分析結果更直觀。
5.  反射電子能量損失譜REELS技術,可實現氫元素的檢測。
6.  離子能量損失譜ISS,可實現樣品表面元素信息的檢測
7.  場發射俄歇AES,可實現樣品表面100nm尺寸下的元素信息檢測。可以進行成分分析、形貌像分析及掃描俄歇像分析等。
8.  紫外光電子能譜(UPS),可以獲得樣品價帶譜信息,對導體、半導體的能帶、帶隙等分析提供主要數據。還可以分析樣品逸出功等。

 


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