移動端
直播推薦
回放
回放
KRI 離子源應用于超高真空電子束蒸鍍設備 UHV E-beam System
超高真空環境的特征為其真空壓力低于 10-8 至 10-12 torr, 超高真空環境對于科學研究非常重要, 因為實驗通常要求在整個實驗過程中, 表面應保持無污染狀態和使用低能電子和離子的實驗技術的使用, 而不會受到氣相散射的過度干擾, 在這樣超高真空環境下使用電子束蒸鍍可以提供高質量的薄膜. 上海伯東代理美國 KRI 考夫曼離子源可以在蒸鍍過程中實現預清潔和輔助鍍膜的作用.
如上圖是超高真空電子束蒸鍍設備, 針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構, 使用陶瓷培林旋轉, 并在內部做水冷循環來保護機構以確保長時間運轉的穩定性.
上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅女士
免責聲明
- 凡本網注明“來源：儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
- 本網轉載并注明自其他來源（非儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發表之日起一周內與本網聯系，否則視為放棄相關權利。
浙公網安備 33010602002722號