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    離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的超高精度非接觸式修形及拋光, 精度可達(dá)亞納米級, 被譽為拋光. 離子束拋光機的最核心部件是可聚焦的高能量離子源. 上海伯東某客戶為專業(yè)精密光學(xué)元器件設(shè)備制造商, 主要產(chǎn)品為離子束拋光機、磁流變拋光機等, 提供超精密光學(xué)工藝制造研發(fā)服務(wù), 是一家超精密光學(xué)元器件解決方案提供商. 經(jīng)推薦, 該客戶采用上海伯東美國 KRi 直流電源式考夫曼離子源 KDC 系列成功應(yīng)用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機.

KRI 離子源用于離子束拋光機:  

應(yīng)用方向：非接觸式亞納米離子束表面修形

應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體/精密光學(xué)

產(chǎn)品類別：高精密光學(xué)器件

加工指標(biāo)：

1. 加工尺寸能力 5-1200mm ；

2. 采用非接觸式加工, 無邊緣效應(yīng), 不產(chǎn)生亞表面損傷；

3. 亞納米加工精度, 可實現(xiàn)面型 RMS<3nm 高精度拋光能力；

4. 加工光學(xué)元器件形狀有：平面、球面、非球面、自由曲面、離軸非球面等；

5. 加工光學(xué)元器件材料有：石英玻璃、微晶、超低膨脹玻璃、KDP 晶體、藍(lán)寶石、硅、碳化硅、紅外材料等. 

    美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準(zhǔn)離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用. 考夫曼離子源通過控制離子的強度及濃度, 使拋光刻蝕速率更快更準(zhǔn)確, 拋光后的基材上獲得更平坦, 均勻性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼離子源內(nèi)置型的設(shè)計更符合離子源在離子拋光機內(nèi)部的移動運行.

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 系列根據(jù)客戶離子拋光工藝條件提供如下型號:

上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.

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上海伯東: 羅小姐