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plasma wand 手持式大氣等離子清洗機

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PLASMA WAND 是一款手持式大氣等離子清洗機,可以握在手中操作的等離子體發(fā)生設備,無需外部氣體,只需接通電源即可工作運行。一款*的小型設備,適用于研究所,大學的實驗室,或者任何需要小型等離子設備的場合。

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Plasma Wand手持式大氣等離子清洗機

      PLASMA WAND 是一款可以握在手中操作的等離子體發(fā)生設備,無需外部氣體,只需接通電源即可工作運行。PlasmaWand是一款*的小型設備,適用于研究所,大學的實驗室,或者任何需要小型等離子設備的場合。

      PLASMA WAND非常適合大樣品焊接或粘合前的表面清洗和表面活化處理。Plasma Wand是一體化等離子裝置,雖然簡單卻可以提供多種功能的解決方案,同其他等離子系統(tǒng)一樣,提供*的和可重復的結果。

 

PLASMA WAND手持式大氣等離子清洗機噴嘴包括:

1.      標準噴嘴:用于清洗塑料、橡膠和絕緣材料。

2.      近距離噴嘴:用于清洗金屬和導電材料

3.      多組分氣體噴嘴:使用氬氣或氦氣作為輸入氣體。

 

       PE公司成立于1980年,致力于提供電子行業(yè)用的等離子設備及相關服務。通過幾十年的發(fā)展,公司發(fā)展成為提供等離子設備方面的專家,可為客戶提供專業(yè)的產品和解決方案,先后眾多企業(yè)提供等離子處理設備:美國宇航局NASA, 美國波音Boeing,*的電子保安系統(tǒng)產品制造商美國霍尼韋爾Honeywell,美國摩托羅拉Moto, 德國拜耳Bayer,美國洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等。

   

      Plasma Etch擁有多項發(fā)明,在開發(fā)和制造等離子設備方面有許多突破性創(chuàng)新,公司擁有等離子體技術和制造技術領域里zui*的技術。這些技術的產品線是公司*的,生產的等離子設備是業(yè)界*的集清洗速度、完整均勻性、安全可靠性為一體的等離子處理設備。

手持式大氣等離子清洗機

標   準   配   置

重量

6盎司/170克

發(fā)生器

30w集成電源

氣體輸入

空氣/氬氣/氦氣

等離子體溫度

< 50℃

工作距離

5~10mm

處理寬度

5~20mm


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