VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

參考價	面議

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2023/2/14 10:48:53
訪問次數(shù) 910

在線詢價收藏產(chǎn)品點擊查看聯(lián)系電話

索取相關(guān)資料

促銷詳情

促銷時間：

特價說明：

促銷詳細：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價促銷

模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

詳細信息在線詢價

產(chǎn)品簡介：VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

產(chǎn)品型號	VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀
主要特點	1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。 2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。 3、體積小，操作簡便。
技術(shù)參數(shù)	1、輸入電源：220V/50Hz 2、濺射靶數(shù)量：2 3、靶槍冷卻方式：水冷 4、極限真空度：7.4E-5pa 5、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm 6、真空系統(tǒng)：VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵 7、恢復(fù)真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時間暴露大氣） 8、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計（１路氬氣100scc、２路氬氣200scc）特殊氣體可定制 9、濺射靶規(guī)格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 10、樣品臺：Φ140mm/可旋轉(zhuǎn)（1～20rpm）/可加熱（室溫～1000℃）
產(chǎn)品規(guī)格	主機尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm