2003年日本電子推出了世界商業化場發射電子探針（FE-EPMA），此后被**地應用于金屬、材料、地質等各個領域，并獲得了的贊譽。**研發的第三代場發射電子探針JXA-8530F Plus，電子光學系統有了很大的改進，新的軟件能提供更高的通量，并保持著的穩定性，能實現更**的EPMA應用。

性能特點

肖特基場發射電子探針Plus

JXA-8530F Plus采用浸沒式肖特基場發射電子*,優化了角電流密度，能利用2 μA以上的大探針電流進行分析，還提高了分析條件下的二次電子像的分辨率。
高級軟件

新開發了多種基于Windows操作系統的軟件，其中包括：能使痕量元素分析更加簡便的“痕量元素分析程序”、能自動制作相圖的“相圖制作器”以及只需簡單輸入就能對表面凹凸不平樣品進行測試的“不平坦樣品的分析程序”等。
靈活的WDS配置

X射線波譜儀可以選擇140 R或100 R羅蘭圓， 羅蘭圓半徑為140 mm的XCE/L型X射線譜儀檢測范圍寬，波長分辨率高和P/ B比優異，100 mm的H型X射線譜儀具有X射線衍射強度高的特點，可以根據需要選擇使用。
WDS/EDS組合系統

JXA-8530FPlus標配了JEOL制造的30平方毫米 SD檢測器（以下簡稱SD檢測器），憑借高計數率的SD檢測器，在與WDS相同的分析條件下可以進行EDS分析，通過簡單的操作就能采集EDS譜圖。
強力、清潔的真空系統

**力真空系統包括兩臺磁懸浮渦輪分子泵， 鏡筒內還采用兩個中間室，通過差動抽氣保持電子*室的高真空。
軟X射線分析譜儀 (SXES)

SXES (Soft X-Ray Emission Spectrometer)軟X射線分析譜儀是日本東北大學多元物質科學研究所（寺內正己教授）和日本電子株式會社共同開發的的高分辨率軟X射線分析譜儀。 新開發的變柵距衍射光柵(VLS）和高靈敏度的CCD相機組合，同時檢測Li-K系譜線和B-K系譜線，該譜儀實現了的能量分辨率，因而能進行化學結合狀態分析等。
miXcroscopy （關聯顯微鏡)

miXcroscopy 光學顯微鏡/掃描電子顯微鏡關聯系統能批量登錄光學顯微鏡的坐標數據作為EPMA的分析點，該系統*適合于需要用光學顯微鏡決定分析位置的樣品。
多功能樣品室

樣品室的可擴展性強，配備了樣品交換室，可以安裝各種附件。
可以安裝的附件：

電子背散射衍射系統（EBSD）
陰極熒光檢測系統
軟X射線分析譜儀
不暴露在大氣環境下的轉移艙
高蝕刻速率的離子源

應用領域

電子探針可以對試樣中微小區域（微米級）的化學組成進行定性或定量分析，可以進行點、線掃描（得到層成分分布信息）、面掃描分析（得到成分面分布圖像）。還能全自動進行批量定量分析。由于電子探針技術具有操作迅速簡便、實驗結果的解釋直截了當、分析過程不損壞樣品、測量準確度較高等優點，在冶金、地質、電子材料、生物、醫學、考古以及其它領域中得到日益**地應用，是礦物測試分析和樣品成分分析的重要工具。