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HK2010系列冷卻水循環裝置典型應用

主要應用領域： 
◆ 分析儀器:  光譜儀  質譜儀  粘度計  旋光儀  發酵裝置  旋轉蒸發儀
◆ 真空獲得及醫療:  分子泵  擴散泵  降溫毯  X光機 核磁共振  加速器  
◆ 工業設備及其他:  激光設備  真空鍍膜設備  生物制藥  模具  機床  真空爐  焊接機  反應釜

◆設計動態恒溫控制系統，整個量程范圍的溫度精確控制，*恒溫波動度達到±0.2℃，適用于-10…40℃范圍各種冷卻循環等。

◆數字顯示設置溫度和實際溫度，設置和顯示分辨力0.1℃。

◆制冷系統關鍵部件如壓縮機、膨脹閥、電磁閥和循環風扇采用進口產品。

◆采用日本進口全不銹鋼渦流循環泵，zui高壓力達到1Bar以上，循環流量不小于10L/min@1Bar。

◆具有*的超溫保護和溫度傳感器異常保護、液位保護、制冷系統高低壓保護和停電保護等功能，保證儀器和試驗安全。由于停電或其他原因造成儀器運行意外中斷，恢復供電后儀器將自動繼續執行，充分保證試驗工作的連續性。

◆同時裝備風冷和水冷冷卻系統，可以避免試驗環境溫度上升和過高環境溫度下儀器的正常運轉。

注：RT=room temperature 室溫 W=width寬度 D=depth深度 H=height高度

原子吸收光譜儀冷卻水循環裝置 電感耦合等離子光譜發生儀冷卻水循環裝置